電鍍高硫鎳添加劑與工藝
來(lái)源：www.tzynykl.com 發(fā)表時(shí)間：2018-01-31
高硫鎳層是往鍍鎳溶液中加入含硫量較高的添加劑，這些添加劑在陰上吸附，通過(guò)電的作用而分解析出硫并夾雜在鍍鎳層中而達(dá)到的。高硫鎳層是三層鍍鎳層的中間鍍層，其底層是半光亮鎳，面層則是光亮鎳層。前面已經(jīng)說(shuō)過(guò)，一般半光亮鎳與光亮鎳層間的電位差應(yīng)達(dá)到120～130mV之間，才有較好的抗腐蝕效果：或者說(shuō)，兩層鎳之間能保持這一電位差，這種雙層鎳鍍層的抗腐蝕性一定是不會(huì)差的。但因?yàn)榘牍饬铃冩嚥邸皨蓺狻�，少量的含硫化合物的污染就可使電位發(fā)生負(fù)移，這已如前述。為了鍍層的抗腐蝕性能，采用三層鎳自然要保險(xiǎn)得多。因高硫鎳與半光亮鎳層闖的層間電位差要達(dá)到150mV以上，這樣電化學(xué)保護(hù)半光亮鎳層的性能就提高了；但含硫量高的鎳層本身的腐蝕會(huì)加速，所以再在其上面加一層電位相應(yīng)較正、抗腐蝕性能相對(duì)較好的光亮鎳層來(lái)遮蓋高硫鎳層，使電位較負(fù)容易引起腐蝕的高硫鎳層得到機(jī)械的保護(hù)，同時(shí)也為了便于套鉻，因含硫量高的鎳鍍層套鉻是困難的。
一般要求高硫鎳含硫量大于0.15%，光亮鍍鎳層的含硫量大乎0.04%且小于0.15%，半光亮鍍鎳層的含硫量小于0.005%，這樣才可半光亮鎳與光亮鎳層之間的電位差在120—130mV之間，高硫鎳與光亮鎳層之間的電位差約在50mV左右。
高硫鎳鍍層不需要厚，厚了反而不好，一般鍍層厚度只需1ｕm左右，電鍍時(shí)間只要2- 3min。
添加荊在高硫鍍鎳溶液中的作用：高硫鎳添加荊要求含硫量高，而且在陰上易于分解，從而讓硫析出與鎳鍍層共沉積。糖精、BBI、對(duì)甲苯磺酰胺、苯亞磺酸鈉、ATP等都是含硫化合物。單獨(dú)加入含硫化合物，有可能含硫量達(dá)到要求，但電鍍層是需要有多項(xiàng)要求的，如分散能力、應(yīng)力、適當(dāng)?shù)墓饬炼群蜐?rùn)濕性，這也是高硫鎳舔加劑應(yīng)該考慮的，因此還得加少量光亮劑和走位劑、低泡潤(rùn)濕劑等一些輔助添加劑，才能達(dá)到好的要求。
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