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鍍鉻過程中如何抑制鉻霧

來源:www.tzynykl.com 發(fā)表時(shí)間:2020-05-19

鍍鉻過程中,由于使用不溶性陽,陰電流效率又很低,致使大量氫氣和氧氣析出,當(dāng)氣體逸出液面時(shí),帶有大量的鉻酸,形成鉻霧造成嚴(yán)重的污染。目前抑制鉻霧的方法有兩種。
1、浮體法將泡沫塑料碎塊或碎片放入鍍液的液面上,這些浮體可阻滯鉻霧的逸出,但零件出槽時(shí),操作不方便。另外鉻酸氧化能力很強(qiáng),對(duì)加入的碎塊有浸蝕作用,使分解產(chǎn)物在鍍液中積累,也會(huì)影響鍍層質(zhì)量。
2、加入泡沫抑制劑 泡沫抑制劑是一種表面活性劑,能降低鍍液的表面張力,產(chǎn)生穩(wěn)定的泡沫層,覆蓋在鍍液表面。一般的表面活性劑在較高溫度和有強(qiáng)氧化劑存在下不穩(wěn)定,但氟碳型表面活性劑在上述介質(zhì)中能穩(wěn)定存在。據(jù)報(bào)道,已用作鉻霧抑制劑的有多種,其中好的是含有性基團(tuán)的脂肪長(zhǎng)鏈有機(jī)化合物,如全氟辛烷基磺酸鈉鹽[-CF3(CF2)6CF2S03Na-]是典型的一種,每升鍍液中加入量為0.2~O.5g/L時(shí),即可達(dá)到良好的效果。中國(guó)已試制出全氟烷基醚磺酸鉀[CF3(CF2)2n+10(CF2)S03K],簡(jiǎn)稱F一53鉻霧抑制劑,在鍍鉻液中的添加量為0.04~0.06g/L。使用時(shí),先將F-53用水調(diào)成糊狀,加水稀釋,煮沸溶解靜止片刻,轉(zhuǎn)入加熱至50~60℃的鍍鉻槽中,不能把不溶的F-53直接倒入鍍槽。

  

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