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硬鉻添加劑的分類及其原理

來源:www.tzynykl.com 發(fā)表時間:2017-11-16

硬鉻添加劑是鍍鉻添加劑的一種。  
一般將單獨使用硫酸為催化劑的鍍鉻液稱為第一代鍍鉻液,同時加入二種或兩種以上無機陰離子的鍍鉻液稱為第二代鍍鉻液,這些無機陰離子主要為氟化物、溴化物、碘化物等。其中加入氟化物可以提高電流效率、覆蓋及分散能力,但含氟化物的鍍液在低電流區(qū)對工件腐蝕比較嚴重,目前比較先進的鍍硬鉻工藝都不含氟化物。  
鍍鉻溶液中的六價鉻以CrO4 2-,Co2O7 2-,Cr3O10 2-,Cr4O13 2-等陰離子形式存在在時,陰對它們有很強的排斥作用,使它們很難接近荷負電的陰表面而發(fā)生電還原反應(yīng)。因此,可能存在一個化學(xué)轉(zhuǎn)化步驟。  
硫元素比鉻元素的電負性大,硫酸鉻酰是個性分子,鉻;鶐д姾,硫酸根帶負電荷,與CrO4 2-,Cr2O7 2-相比,陰對硫酸鉻酰分子的排斥作用減弱了。使得六價鉻容易接近陰表面,實現(xiàn)往電表面的傳輸。在陰表面上,鉻酰基的一端指向陰表面,硫酸根的一端指向溶液。H2SO4的作用就是改變六價鉻的存在狀態(tài),使不易電還原的CrO4 2-,Cr2O7 2-轉(zhuǎn)變?yōu)橐子陔娺原的硫酸鉻酰。如果鍍鉻液中不存在H2SO4,就不會有硫酸鉻酰的生成,難以電沉積出鉻來,此時,溶液中的陰離子只有 H+,陰只能將H+還原為H2氣體析出。  
在電鍍中一般的電鍍工藝電流效率在70%~之間,而目前生產(chǎn)中使用的鍍鉻工藝則電流效率很低,一般只有10%~25%,所以有很大的發(fā)展?jié)摿,再者鍍鉻的應(yīng)用十分廣泛。因此,對鍍鉻的研究開發(fā)具有重要意義和良好的前景。     
近年來硬鉻添加劑的研究圍繞著解決鍍鉻的電流效率低、環(huán)境污染嚴重、消耗量大、鍍液的覆蓋能力差等問題而展開.熱點是稀土陽離子添加劑、有機陰離子添加劑及復(fù)合型添加劑的研究,并且已經(jīng)取得了較大的進展。如CS型、RI-3C、CF-20l、HC-1、HEEF25、CH系列添加劑Atotech 公司的HCR840等都已進人生產(chǎn)階段。超快速鍍鉻工藝HEEF-Fc采用高電流效率和高電流密度的方法使其鍍速為普通鍍鉻的10倍,但對設(shè)備的要求也更嚴格。

  

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