鍍鉻層特別是槍管鍍鉻層對(duì)厚度均勻性有著嚴(yán)格的要求。由于鍍鉻液分散能力差，對(duì)大工件鍍鉻，尤其是施鍍時(shí)間長(zhǎng)、電流大的鍍硬鉻，鉻層沉積越厚，越容易造成電流分布不均勻，產(chǎn)生諸如錐度、橢圓度、“狗骨”形態(tài)等缺陷。本文介紹了陽(yáng)、內(nèi)電阻、三價(jià)鉻等因素對(duì)鍍鉻層厚度均勻性的影響。
1.陽(yáng)與鍍件布局的影響
1.1 陽(yáng)位置
一般鍍鉻層厚度的均勻性取決于陽(yáng)與鍍件的相互關(guān)系。通常情況下，陽(yáng)與鍍件的間距越近，鍍鉻層越能與鍍件的幾何形狀相一致。但是，當(dāng)陽(yáng)與鍍件外徑不相似時(shí)，如果增大陽(yáng)與鍍件的間距，可以使電流在陽(yáng)表面上分布較均勻;如果陽(yáng)與鍍件的間距太近，則電流分布反而不均勻。電鍍外徑工件時(shí)，陽(yáng)與鍍件的間距應(yīng)控制在10～25 cm范圍內(nèi)。如果陽(yáng)離鍍件太遠(yuǎn)，則溶液電阻增大，電能損耗增加。在操作中應(yīng)做到以下幾點(diǎn)：
(1)形狀較簡(jiǎn)單的鍍件，可與陽(yáng)靠近些;形狀不規(guī)則的鍍件，與陽(yáng)的間距應(yīng)盡量大些。
(2)大小較懸殊的鍍件不能同槽進(jìn)行電鍍，避免電流分布呈嚴(yán)重的不均勻狀態(tài)。
(3)鍍件放置的不同部位與陽(yáng)的間距應(yīng)盡量相等，這樣可使溶液的電阻相似，電流分布均勻。
(4)將鍍件(尤其是軸)定位在以4根陽(yáng)組成的、各自的“箱式”中，讓電流在鍍件表面能均勻地分布，避免產(chǎn)生橢圓度。
1.2 陽(yáng)超長(zhǎng)
鍍硬鉻所用的鉛合金陽(yáng)應(yīng)該比鍍件(尤其是軸)短一些。陽(yáng)的頂部略低于鍍件的頂部，而陽(yáng)的底部要高于鍍件的底部，避免陽(yáng)超長(zhǎng)部位的電流分布到鍍件上而呈“狗骨”形態(tài)，即：上部鍍鉻層太厚、中間薄、下部較厚。
鍍鉻陽(yáng)的長(zhǎng)度通常根據(jù)鍍槽深度而定，除非采用以定型產(chǎn)品設(shè)計(jì)制作的專用陽(yáng)，一般陽(yáng)下部離槽底約為15 cm，上部高于液面5 cm。對(duì)這種狀態(tài)的陽(yáng)，如果電鍍定型產(chǎn)品(一般為軸類件)，可將超過(guò)鍍件部位(頂部或底部)的陽(yáng)面用塑料盤帶包封絕緣;如果是非定型產(chǎn)品或長(zhǎng)短不一致的工件，可在鍍件的上下部加保護(hù)陰。
2.內(nèi)電阻縱向分布的影響
2.1溶液電阻
溶液電阻的縱向分布狀態(tài)，使鍍鉻過(guò)程中產(chǎn)生的氫氣泡從槍管內(nèi)不斷上溢，帶動(dòng)溶液由下而上地流動(dòng)，且不斷更新。這時(shí)上部溶液的質(zhì)量濃度低，氣泡數(shù)量多，從而使溶液電阻的縱向分布呈上大下小的不均勻狀態(tài)。
2.2化電阻
由于鍍液中的氣泡數(shù)量呈上多下少的梯度狀態(tài)，越向上氣泡占據(jù)的空間越大，使得溶液在陰上部的交換速率比下部的快。這種流動(dòng)速率的不均勻狀態(tài)，也就造成了化電阻的縱向分布呈上小下大的梯度狀態(tài)。
2.3陽(yáng)電阻
槍管鍍鉻一般采用鋼絲鍍鉛陽(yáng)。這種鋼芯陽(yáng)的電阻所造成的電位降，使槍管內(nèi)不同斷面上陰、陽(yáng)之間的電壓不相同(如上部的電壓比下部的高)，形成自上而下的梯度狀態(tài)。這種狀態(tài)使得電流在陰表面上的縱向分布不均勻。
3.三價(jià)鉻的影響
鍍鉻液中三價(jià)鉻的質(zhì)量濃度對(duì)內(nèi)電阻縱向分布狀態(tài)有著顯著的影響。實(shí)踐證明：隨著鍍液中三價(jià)鉻的質(zhì)量濃度的增加，內(nèi)電阻縱向分布不均勻性逐漸得到改善。三價(jià)鉻的質(zhì)量濃度較高時(shí)，溶液在槍管內(nèi)自下而上的流速變慢，這顯然是氣體生成速率較慢所導(dǎo)致的。溶液流速變慢，使溶液的質(zhì)量濃度梯度變大，導(dǎo)致溶液電阻縱向梯度增大;同時(shí)縮小了上下部陰表面溶液的交替速率差，導(dǎo)致化電阻縱向梯度降低。溶液電阻縱向梯度的增大和化電阻縱向梯度的降低，都有利于上大下小的電阻(包括陽(yáng)電阻)梯度的形成，從而提高電流縱向分布的均勻性。
鍍鉻過(guò)程中，堿式鉻酸鉻薄膜在陰表面不斷生成，而硫酸鉻離子不斷在陰溶解堿式鉻酸鉻薄膜。成膜和溶解的過(guò)程在陰表面上交替進(jìn)行，當(dāng)膜的溶解速率較慢時(shí)，氫氣析出較快;當(dāng)膜的溶解速率較快時(shí)，氫氣析出較慢。由此認(rèn)為：當(dāng)三價(jià)鉻的質(zhì)量濃度較高時(shí)，溶液中硫酸鉻離子的數(shù)量增多，在陰上加快了堿式鉻酸鉻薄膜的溶解，因而也就減緩了氫氣的析出。可能是由于三價(jià)鉻氧化成六價(jià)鉻時(shí)需克服的阻力比氧氣析出時(shí)需克服的阻力小，所以當(dāng)三價(jià)鉻的質(zhì)量濃度增加時(shí)，三價(jià)鉻氧化成六價(jià)鉻的反應(yīng)速率加快，相應(yīng)地抑制了氧氣的生成速率。
鑒于此，對(duì)于槍管(特別是細(xì)長(zhǎng)槍管)鍍鉻，鍍鉻液中三價(jià)鉻的質(zhì)量濃度必須維持在10g/L以上(工藝規(guī)定在8—12g/L范圍內(nèi))。當(dāng)三價(jià)鉻的質(zhì)量濃度較低時(shí)，上部鉻層沉積速率快、下部慢，形成上厚下薄的不均勻鍍鉻層。但是，當(dāng)三價(jià)鉻的質(zhì)量濃度過(guò)高時(shí)(一般14g/L以上)，上部鉻層沉積速率慢、下部快，形成上薄下厚的不均勻鍍鉻層。
另外，三價(jià)鐵離子也有影響，其對(duì)陰表面成膜與溶解交替的過(guò)程，與三價(jià)鉻有著相似的作用。也就是說(shuō)三價(jià)鐵離子和三價(jià)鉻都影響氫氣的生成速率。所以在工藝中規(guī)定三價(jià)鐵離子的質(zhì)量濃度應(yīng)小于8g/L。
(1) -般鍍鉻層厚度的均勻性取決于陽(yáng)與鍍件的相互關(guān)系，因此，在操作中必須合理地控制陽(yáng)和鍍件的間距。
(2)槍管鍍鉻層厚度縱向錐度，與鍍鉻液中三價(jià)鉻的質(zhì)量濃度有著密切的關(guān)系。要得到比較理想的鍍鉻層，三價(jià)鉻的質(zhì)量濃度應(yīng)嚴(yán)格控制在一定范圍內(nèi)。
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